2020-12-24 21:21:24 来源:参考消息网 责任编辑:张威威
核心提示:报道称,通过使用超临界流体,可以降低干燥时微细图案结构被液体表面张力破坏的风险。新产品在干燥工序中以超临界流体代替酒精作为清洗液。

参考消息网12月24日报道 日媒称,日本大型半导体制造设备厂商东京电子宣布,将于2021年1月发售清洗机“CELLESTA SCD”,该产品带干燥功能,可提高最尖端半导体的成品率。通过增加使用“超临界流体”(基本没有表面张力)的干燥工序,防止半导体上的微细结构被破坏。这款清洗机将用于“微细化”和“多层化”的最尖端半导体制造,“微细化”是缩小电路线宽,“多层化”是在高度方向上层叠电路。

据《日本经济新闻》网站12月18日报道,新产品在东京电子的枚叶式清洗机CELLESTA系列中配备了超临界干燥专用反应室,将用于制造结构不断微细化、复杂化的逻辑半导体及个人电脑等使用的半导体存储器DRAM。

报道称,通过使用超临界流体,可以降低干燥时微细图案结构被液体表面张力破坏的风险。新产品在干燥工序中以超临界流体代替酒精作为清洗液。

东京电子的半导体清洗机。(《日本经济新闻》网站)

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